抛光工艺参数 工艺参数有抛光剂的浓度和供给量，抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前，抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加，浓度值达之后，若再增加浓度，抛光速度反而降低。同样，抛光剂的供给量在一定值时，抛光速度，之后若继续增加供给量，抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力，可以增加抛光速度，但压力过大，磨削作用加强，不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘（具）的转速，但线速度过大，抛光剂将会被甩出，造成浪费。

一般而言，产品精磨后，产品的光泽度在40~50左右，而有些石材精磨后达不到上面的光泽度，如山西黑、黑金砂、集宁黑等，此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间，用前面的微粒研磨原理解释不够一面，这种产品在抛光“干与湿”，温度的升高，降温中，强化抛光过程，发生物理化学反应，产品在经过“干抛光、湿抛光”中，光泽度逐步提高，光泽度达95度以上

抛光磨石在被加工产品上抛光，待抛光产品烫手后，将板面加水量水，以起到降温作用，不允许连续加水或大量加水，否则，水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果，也不能全部使用干抛光，过高的温度会烧坏板面，而且会使板面出现裂纹。

抛光磨石一般有两种：树脂抛光块；树脂抛光盘。 产品的抛光：将抛光磨石放在被加工的产品上，用机械设备快速运转及“干抛光、湿抛光”来达到抛光效果，产品表面会出现很强的反射光，这是通常所说的光泽度。 抛光的原理主要反映在2个方面：微粒研磨原理；物理化学原理。